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硅片清洗废水处理案例|硅片清洗废水处理方法

该厂为85英寸晶圆加工线生活设施的超注射用水装置,每顿饭引起含硅废水处里方法150吨。废水处里方法中虽无天价属,但硅浓度高易水垢,且电阻值率需到达18MΩ·cm也能循环。原来的处里工艺流程就没有办法做到新颁行的《電子工业化水弄脏物排卸规定》(GB39731-2020)有点排卸限制值。 废液成分表共同点 重点感染物 :溶液硅(200-300mg/L)、颗粒状硅(孔径0.1-1μm) 唯一性的标准 :TOC<10μg/L,硼分量<5μg/L 水质监测性能 :低电阻率(<50μS/cm)但硅有机化合物性状繁复 补救技术方法 信息化采用了"梯级膜剥离+电去铁离子"整合加工过程: 微滤预治疗 :1μm工业陶瓷膜电话拦截大小粒硅,通量维系80LMH 阳离子交互树脂胶 :D201大孔树脂胶选定性吸附物硅酸碳原子 二次RO平台 :第一名段环保再生资源回提取率60%,最后段用高脱硼膜元器件封装 EDI电去亚铁离子 :功率容重2A/m²,连续的还原残留物阴离子 UV紫外线消毒杀菌 :254nm太阳光的太阳光线用量40mJ/cm² 技术工艺特色 定制开发上用阻硅剂(有机物胺类塑料物),廷缓膜造成的污染过渡期3倍 EDI模块电源企业创新流道制作,硅除掉率提高了至99.8% 百度在线硅阐述仪(测试使用范围0.1-500μg/L)实现了精准定位掌握 正常运作工作成效 经第3方查测: 总硅从280mg/L降到0.05mg/L 硼成分从8μg/L降下来0.3μg/L 控制系统收集率从原40%大幅提升至68% 膜换时间段增长至5年,年行驶代价降低了35%

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