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半导体含氟废水处理案例|半导体含氟废水处理方法

的项目背景图片 该半导体设备手工制造的各个企业靠近华中地域,基本的生产集合线路加工治理芯片,日减排量含氟污水约800吨。因此本县低能耗标准规范提升,多余加工治理安全设施是无法够满足氟化物减排量酸度不超5mg/L的新需要,的各个项目投资者1700万元改建专业性含氟污水加工治理平台。 废污水组成成分及来源地 化工废水通常由来于处理芯片生产方式中的刻蚀多种工艺和进行维护清洁多种工艺,通常被大气污染物属于: 氟铁离子溶度:300-800mg/L pH值:2- 带有少许硅酸盐、磷酸二氢钠 轻微血本属如铜、镍等 除理工艺设备步骤流程 使用"预办理+物理化学沉垫+厚度办理"结合工艺设备: 调高池:多样化水环境水流量,软件设置pH高清环境监测器 1级现象池:污泥脱水氢阳极氧化钙,把握pH至7-8,建成氟化钙凝固 特级水解池:水解破乳氟化钙工业废水 两级生理反应池:加药系统氯化钙和缩聚氯化铝,进那步避开的残留物氟亚铁离子 下级沉垫池:二级沉垫拆分 砂滤系统性:快速清理透明桌面物 生物炭降解:祛除有机质物和微量分析高价属 废水加工设计:板框压滤脱水处理,废水含水分率调至60%以内 最终能够结果 整体作业安全稳定后,冒水饮用水: 氟化合物氧浓度:2.1-3.8mg/L pH值:6.5-7. SS<5mg/L 高价属分子量均底于检测限 全达到《手机产业水感染物废气减排规范》(GB39731-2020)规定,次年可以减少氟化物废气减排约180吨。

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