半导体封装废水怎么处理方法|半导体封装废水处理案例
活动游戏背景
该中小单位建在吉林省东莞市,一般跨专业一个半导体IC芯片IC芯片的封裝各种测试,日直接排放物废出水量约200吨。因加工过程中 中施用不同催化制剂,废气材质非常复杂,包含有高渗透压铜、镍等巨资属并且 改性环氧硅胶粘合剂硅胶粘合剂、光刻胶等无机感染物。中小单位以往工作措施没法要求公布直接排放物规范标准,需要加剧处理。
废渣组成成分及源头
真空电镀污废水
:主要来出自集成电路芯片引脚化学镀工步,具有刺激性铜、镍、锡等高价属亚铁离子,pH值起伏较大大。
设计废气
:核心来于封装形式胶凝固、光刻鑫霖环保,富含氯化橡胶漆不饱和树脂、异丙醇、甲苯等有机会稀释剂。
强酸强碱焦化废水
:会产生于晶圆清洁和蚀刻生产工艺,有盐酸、硝酸钠、氢被氧化钠等。
处理技术方案
预整理的阶段
强酸强碱采和
:按照投加药剂装置转换pH至6-9,解决后期处理装置金属腐蚀。
水泥混凝土水解
:加药PAC(汇聚氯化铝)和PAM(聚炳烯酰胺),出掉浮动物和部件血本属。
层面治理 价段
高端氧化物
:运用Fenton化学药品(H₂O₂+Fe²⁺)化解难化学降解有机的物,COD消除率达70%往上。
膜活性炭过滤
:反进行渗透装置(UF)+反进行渗透(RO)组合名字工艺设备,进一点挪作他用巨资属和充分均匀溶解性有机酸物。
层次清理步骤
化合物交換
:专采取铜、镍化合物,提高认识出液血本属含量不超0.5mg/L。
可溶性炭吸附物
:对于进而确保,清除留下进样器有机肥料物。
从而的效果
经办理后,溢水水环境到《電子行业水废弃物物污染物准则》(GB 39731-2020):COD<50mg/L、铜<0.3mg/L、镍<0.1mg/L,回收利用率增强至60%,年不浪费的行为需要用水利润约80十万。